ZEISS ist ein weltweit führender Technologiekonzern in der Halbleiterfertigungstechnik. Mit hochpräzisen Lithografie-Optiken, Photomask-Systemen und Prozesskontrolllösungen ermöglicht ZEISS die Produktion kleinerer, leistungsfähigerer und energieeffizienter Mikrochips. Etwa 80 Prozent aller weltweit produzierten Mikrochips entstehen mit ZEISS-Technologien.
Als Systems Engineer für EUV-Metrologie entwickeln, analysieren und optimieren Sie EUV-Sensoren und Kamerasysteme für hochpräzise Metrologie-Anwendungen. Sie erstellen und evaluieren Fehlerbudgets, leiten System- und Montagekonzepte ab und führen umfangreiche Simulationen durch. Sie konzipieren, realisieren und betreiben Charakterisierungs- und Testaufbauten zur Performance- und Lebensdauer-Qualifizierung von EUV-Kamerasystemen.
Sie verfügen über einen Abschluss in Naturwissenschaften oder Technik mit Schwerpunkt Optik, Optoelektronik oder Systemtechnik. Sie bringen tiefgreifendes Verständnis für Präzisions-Messtechnik, Systemtechnik und umfangreiche Kenntnisse in EUV-Sensoren, optischen Bildgebungssystemen und EUV-Quellen mit. Berufserfahrung in der Umsetzung anspruchsvoller Entwicklungsaufgaben ist erforderlich. Sie arbeiten strukturiert und eigenverantwortlich, können komplexe Sachverhalte klar darstellen und verfügen über ausgeprägte Teamfähigkeit sowie verhandlungssichere Deutsch- und Englischkenntnisse.
Moderne Arbeitsumgebung mit Entwicklungsmöglichkeiten, flache Hierarchien und Kultur basierend auf Fachkompetenz und Teamgeist, unterstützt durch einzigartige Unternehmensstruktur und langfristige Ziele der Carl Zeiss Foundation, vielfältige Karriereperspektiven in einem innovativen Technologiekonzern, kollegiale Zusammenarbeit in globalen Teams.
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